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Capítulo de livro
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Range Distributions of Boron in Silicon Dioxide and the Underlying Silicon Substrate

1975; Springer Nature; Linguagem: Inglês

10.1007/978-1-4684-2151-4_25

Autores

K. Wittmaack, F. Schulz, B. Hietel,

Tópico(s)

Ion-surface interactions and analysis

Referência(s)
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