ChemInform Abstract: CHEMIE DES ATOMAREN SILICIUMS 3. MITT. RK. VON DURCH ELEKTRONENBESCHUSS ENTSTANDENEM SILICIUMDAMPF MIT SILANEN
1972; Wiley; Volume: 3; Issue: 42 Linguagem: Alemão
10.1002/chin.197242357
ISSN2199-2924
AutoresPhilip S. Skell, Peter W. Owen,
Tópico(s)Silicone and Siloxane Chemistry
ResumoAbstract Siliciumatome reagieren mit Trimethylsilan, Dimethylsilan, Methylsilan und Disilan ausschließlich durch Einschiebung in die Si‐H‐Bindungen unter Bildung von Silenen, die sich wiederum in die Si‐H‐Bindung eines weiteren Substratmole‐ küls schieben oder zu linearen oder cyclischen Polysilanen polymerisieren.
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