ChemInform Abstract: CHEMIE DES ATOMAREN SILICIUMS 3. MITT. RK. VON DURCH ELEKTRONENBESCHUSS ENTSTANDENEM SILICIUMDAMPF MIT SILANEN

1972; Wiley; Volume: 3; Issue: 42 Linguagem: Alemão

10.1002/chin.197242357

ISSN

2199-2924

Autores

Philip S. Skell, Peter W. Owen,

Tópico(s)

Silicone and Siloxane Chemistry

Resumo

Abstract Siliciumatome reagieren mit Trimethylsilan, Dimethylsilan, Methylsilan und Disilan ausschließlich durch Einschiebung in die Si‐H‐Bindungen unter Bildung von Silenen, die sich wiederum in die Si‐H‐Bindung eines weiteren Substratmole‐ küls schieben oder zu linearen oder cyclischen Polysilanen polymerisieren.

Referência(s)
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