Produção Nacional
Desenvolvimento de dispositivo rotacional em plasma CC pulsado para a deposição de filmes finos de nanomateriais em agregados graúdos sujeitos à reação álcali-agregado
2017; Linguagem: Português
10.4322/2sppc.2017.008
ISSN2526-7248
AutoresMaurício Marlon Mazur, Kleber Franke Portella, Mariana D’Orey Gaivão Portella Bragança, Evandro de Mesquita Silva, S. A. Pianaro, Bruno Endo Ribeiro, Emerson Luís Alberti,
Tópico(s)Electrophoretic Deposition in Materials Science
ResumoA reação álcali-agregado (AAR) é um tipo de ataque químico presente em boa parte dos concretos de cimento Portland.São reações químicas formadas normalmente por álcalis, os quais estão presentes no agregado, no cimento, na água de amassamento e nos agentes externos ambientais.O produto da sua interação é um silicato amorfo com característica de um gel higroscópico, cuja expansão propaga trincas na matriz e no agregado, resultando em fenômenos deletérios para estruturas civis.Para reduzir estes efeitos, alguns trabalhos apresentam alternativas como a adição de materiais pozolânicos, compostos a base de lítio, nano-Fe3O4, nano-TiO2, entre outros.Neste trabalho, teve-se como objetivo desenvolver uma forma de depositar nano-Al sobre a superfície de agregados com a utilização da técnica de plasma magnetron sputtering.Para utilizar esta técnica, foi necessário rotacionar os agregados para que houvesse a formação do filme fino em toda a superfície, uma vez que a deposição acontece no sistema de forma direcional.Neste sentido, desenvolveu-se um dispositivo cilíndrico rotacional para haver uma homogeneidade do filme formado.As análises de microscopia óptica demonstraram haver um recobrimento em uma batelada de 500 g do agregado, sendo avaliada a sua eficácia a partir dos testes de expansão em meios de envelhecimento acelerado.Os resultados quanto à expansão dos
Referência(s)