FABRICAÇÃO DE UM CONJUNTO DE PULVERIZAÇÃO CATÓDICA TIPO MAGNETRON

1989; Volume: 8; Linguagem: Português

10.17563/rbav.v8i1-2.787

ISSN

1983-4047

Autores

Neelkanth G. Dhere, Catarina Ferreira, L. R. O. Cruz, La Cruz, I. G. Mattoso,

Tópico(s)

Material Properties and Processing

Resumo

A tecnica de pulverizacao catodica tipo magnetron permite a obtencao de filmes finos com altas taxas de deposicao, com pressoes e voltagens mais baixa que as utilizadas com os sistemas de pulverizacao catodica convencionais. Pode-se depositar filmes finos metalicos, semiconciutores e dieletricos. O trabalho descreve o projeto e ccnstrucao de um conjunto de pulverizacao catodica planar tipo magnetron com alvos de 3” de diâmetro. O conjunto apresenta como principal vantagem o fato de nao necessitar de conectores (“feedthru’ s) de alta voltagem e resfriados a agua, um vez que as ligacoes eletricas serao realizadas fora do vacuo.

Referência(s)