Produção Nacional
Revisado por pares
Nitretação a plasma de zircônia estabilizada com ítria: um estudo comparativo
2017; Editora da Universidade de Caxias do Sul; Volume: 5; Issue: 1 Linguagem: Português
10.18226/23185279.v5iss1p18
ISSN2318-5279
AutoresMichel Molossi, Jadna Catafesta, Carlos A. Figueroa, César Aguzzoli,
Tópico(s)Gas Sensing Nanomaterials and Sensors
ResumoEste trabalho apresenta a investigação experimental da nitretação da zircônia parcialmente estabilizada com ítria (3% mol), utilizando dois diferentes métodos de nitretação: i) nitretação a plasma por radiofrequência e ii) nitretação por indução eletromagnética, através de um forno de indução de alta frequência. As características morfológicas e físico-químicas da camada resultante do processo de nitretação a plasma foram analisadas por diferentes técnicas, tais como espectroscopia de retroespalhamento Rutherford e difração de raios X e análise química por espectroscopia Raman e Espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X. A estrutura da camada nitretada a plasma é complexa, sendo composta de zircônia tetragonal e cúbica, bem como de oxinitreto de zircônio. Este artigo descreve uma comparação entre duas técnicas de nitretação para determinar a eficiência de cada método. A técnica de nitretação a plasma por radiofrequência foi mais efetiva que por indução eletromagnética devido a incorporação de nitrogênio na matriz da zircônia. http://dx.doi.org/10.18226/23185279.v5iss1p18
Referência(s)