Voltar
Artigo Produção Nacional
BIBTEX RIS

Forças de contração de polimerização em resinas compostas constituídas com novas matrizes orgânicas e fotoativadas por diferentes técnicas

2017; Volume: 26; Issue: 79 Linguagem: Português

10.36065/robrac.v26i79.1181

ISSN

1981-3708

Autores

Julyana Dumas Santos Silva, Ana Clara Freitas de Menezes Bandeira, Marielly Lopes da Cunha, Ana Paula Tavares Magalhães, Gersinei Carlos de Freitas, Lawrence Gonzaga Lopes,

Tópico(s)

Photopolymerization techniques and applications

Resumo

Objetivo: Verificar a forca de contracao de polimerizacao de tres diferentes resinas compostas em funcao de dois metodos de fotopolimerizacao (convencional e pulso tardio). Foram selecionados para o estudo tres materiais, com diferentes matrizes orgânicas: Bis-GMA – Filtek Z250 XT (3M-ESPE, Saint Paul, Minnesotta, EUA); Silorano – Filtek P90 (3M-ESPE, Saint Paul, Minnesotta, EUA) e TCD-Uretano - Charisma Diamond (Heraeus Kulzer, Sao Paulo, Sao Paulo, Brasil). Material e Metodo: Os corpos de prova foram confeccionados a partir de uma matriz retangular de aco inoxidavel (6mm x 1mm x 2mm), posicionados em uma maquina de ensaios universal (Instron, Modelo 5965) para registro da forca de contracao de polimerizacao (Newtons). A fotoativacao foi executada em cada grupo com fonte de luz do tipo LED (600mW/cm 2 ) sob dois protocolos de fotoativacao: continuo - 40s (600mW/cm 2 ) e pulso tardio - 5s (600mW/cm 2 ) + 1 min sem luz + 35s (600mW/cm 2 ). Considerou-se como forca de contracao o valor registrado pela maquina de ensaios 2 minutos apos o inicio da aplicacao da luz no especime. Os valores obtidos foram submetidos a analise de variância (ANOVA), seguido pelo teste de Tukey ( p =0,05). Resultados: Nao houve diferenca estatistica significativa entre as duas tecnicas de polimerizacao testadas nas resinas compostas a base de silorano e TCD-Uretano, porem, houve diferenca para a resina a base de Bis-GMA. Conclusao: A tecnica de pulso influenciou positivamente na reducao da forca de contracao em matriz polimerica a base de Bis-GMA, entretanto, nao promoveu beneficios para as resinas a base de silorano e TCD-Uretano.

Referência(s)