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Diseño e implementación de un sistema de fotolitografía para fabricar microdispositivos a partir de películas delgadas

2018; National University of Colombia; Volume: 85; Issue: 205 Linguagem: Espanhol

10.15446/dyna.v85n205.68837

2346-2183

Jhon Jairo Realpe, Bolaños-Pantoja Gilberto, Juan Fernando Flórez Marulanda,

Thin-Film Transistor Technologies

Este artículo presenta el diseño e implementación de un sistema de fotolitografía para fabricar microdispositivos basados en películas delgadas. El sistema trabaja con una fuente ultravioleta (UV) de 380nm y permite obtener microestructuras de 10-200 μm. La implementación se hizo con el proceso de diseño y desarrollo de productos, donde se determinó las especificaciones técnicas, generación, selección y prueba de conceptos de los módulos de equipo del sistema. Se implementó un spincoater con rango de operación de 500-6000 rpm y una fuente de radiación UV basada en LEDs UV, con potencia de radiación de 1-20mW/cm2 y tiempo de exposición de 1-60s. Se obtuvo micropuentes (mPs) de 30-105μm sobre películas delgadas de cobre. Con microscopía óptica y procesamiento digital de imágenes, se determinó que el error relativo porcentual en sus áreas es menor al 4% y la variabilidad en sus anchos es menor a dos veces la desviación estándar.