Portal de Periódicos da CAPES

Plasma-based sources of extreme ultraviolet radiation for lithography and mask inspection

2018; Lebedev Physical Institute; Volume: 189; Issue: 03 Linguagem: Russo

10.3367/ufnr.2018.06.038447

1996-6652

D. B. Abramenko, P. S. Antsiferov, Dmitry Astakhov, A Yu Vinokhodov, Ilia Yurievich Vichev, R. R. Gayazov, А С Грушин, L. A. Dorokhin, V. V. Ivanov, Dmitrii Andreevich Kim, K. N. Koshelev, Pavel Krainov, M. S. Krivokorytov, V.M. Krivtsun, B. V. Lakatosh, A. A. Lash, Vyacheslav V. Medvedev, Aleksandr N. Ryabtsev, Yu. V. Sidelnikov, E. P. Snegirev, Anna Dmitrievna Solomyannaya, Maksim V Spiridonov, I. P. Tsygvintsev, O. F. Yakushev, A. A. Yakushkin,

Welding Techniques and Residual Stresses

Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН), Абраменко Д.Б., Анциферов П.С., Астахов Д.И., Виноходов А.Ю., Вичев И.Ю., Гаязов Р.Р., Грушин А.С., Дорохин Л.А., Иванов В.В., Ким Д.А., Кошелев К.Н., Крайнов П.В., Кривокорытов М.С., Кривцун В.М., Лакатош Б.В., Лаш А.А., Медведев В.В., Рябцев А.Н., Сидельников Ю.В., Снегирев Е.П., Соломянная А.Д., Спиридонов М.В., Цыгвинцев И.П., Якушев О.Ф., Якушкин А.А.