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Influence of the adsorption of Co and Ni on the distribution of active sites on gammaalumina. A theoretical quantum study employing the Fukui function

2019; Association of Chemists of the Chemical Institute of Sarria; Volume: 76; Issue: 586 Linguagem: Inglês

2339-9686

Luis Humberto Mendoza-Huízar,

Catalytic Processes in Materials Science

espanolEn el presente trabajo se analiza la distribucion de sitios activos durante el proceso de absorcion de Co o Ni sobre y -Al2O3. Los descriptores de reactividad global indican que el comportamiento nucleofilico sigue el orden y Al2O3>Co/y-Al2O3>Ni/y-Al2O3. El valor de dureza global indica que el sistema Co/ y-Al2O3 es el mas reactivo de los sistemas analizados. Por otro lado, el valor de la funcion de Fukui indica que los sitios electrofilicos estan ubicados en los atomos de oxigeno, los sitios nucleofilicos en los atomos de aluminio, mientras que los sitios susceptibles de ataques por radicales libres se ubican en los atomos de oxigeno y aluminio. En el caso de Co/y-Al2O3 and Ni/y-Al2O3, los sitios mas reactivos hacia ataques electrofilicos, nucleofilicos y por radicales libres se localizan principalmente en los atomos de Co y Ni, respectivamente. catalaEn el present treball, s'analitza la distribucio de llocs actius durant el proces d'absorcio de Co o Ni sobre y-Al2O3. Els descriptors de reactivitat global indiquen que el comportament nucleofilic segueix l'ordre y-Al2O3>CO/ y-Al2O3>Ni/y-Al2O3. El valor de duresa global indica que el sistema CO/ es el mes reactiu dels sistemes analitzats. D'altra banda, el valor de la funcio de Fukui indica que els llocs electrofilics estan ubicats en el atoms d'oxigen, els nucleofilics en els atoms d'alumini, mentres que els llocs susceptibles d'atacs per radicals lliures es van situar en els atoms d'oxigen i alumini. En el cas de CO/y-Al2O3 i Ni/y-Al2O3, els llocs mes reactius cap a atcs electrofilics, nucleofilics i per radicals lliures es van localitzar principalment en els atoms de Co i Ni, respectivament. EnglishIn the present work, we have analyzed the distribution of active sites on Al O32 caused by the adsorption process of either Co or Ni. The global reactivity descriptors indicate that the nucleophilic behavior follows the order Al O32 >Co/ Al O32 > Ni/ Al O32 . Also, the hardness value indicates that the system Co/ Al O32 is the more reactive of the systems analyzed. The value of the Fukui function indicates that in Al O32 the electrophilic sites are located on oxygen atoms, the nucleophilic sites are on aluminum atoms, while the sites to free radical attacks are placed on oxygen and aluminum atoms. In the case of Co/ Al O32 and Ni/ Al O32 .the more reactive sites for electrophilic, nucleophilic and free radical attacks were located mainly on the Co and Ni atoms, respectively.