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Efeito da aplicação de silício na germinação de sementes de pimenta sob estresse salino

2020; Grupo de Pesquisa Metodologias em Ensino e Aprendizagem em Ciências; Volume: 9; Issue: 8 Linguagem: Português

10.33448/rsd-v9i8.5442

2525-3409

Carla Medianeira Giroletta dos Santos, Viviane Wruck Trovato, Adriana Morais do Nascimento Matos, Gilson Domingos do Mar, Denise Prevedel Capristo, Jeferson Antônio dos Santos Silva, Bruna Neves Pereira da Silva,

Soil Management and Crop Yield

O objetivo do presente estudo foi de avaliar a germinação de sementes de Naga Jolokia (Capsicum chinense Jacq.) sob estresse salino com efeito da aplicação de doses de silício. O delineamento experimental utilizado foi inteiramente ao acaso, com nove tratamentos (doses de cloreto de sódio associados com Silício) e quatro repetições, constando de 36 unidades experimentais. Para o estresse salino foi empregado concentrações de cloreto de sódio nas doses de 0; 3,5 e 4,5 dS m-1, e como fonte de silício utilizou-se dióxido de silício, sendo aplicadas as seguintes doses: 0, 30 e 60 g de silício 100 kg sementes-1. As variáveis analisadas foram plântulas anormais, plântulas mortas, germinação, índice de velocidade de germinação, comprimento da parte aérea e de raiz e massa fresca e seca. Os resultados da análise de variância evidenciaram diferença significativa para os tratamentos (P>0,05), para as variáveis plântulas anormais, plântulas mortas, germinação, índice de velocidade de emergência e massa seca de plântula, indicando efeito positivo da aplicação do silício, concluindo que condições de elevada salinidade, influenciam de forma negativa as variáveis observadas, porém, nos tratamentos com salinidade a adição de silício ajuda a atenuar o estresse na planta.