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Crecimiento de películas delgadas de óxido de vanadio por sputtering rf y caracterización por espectroscopía raman

2018; Executive Business School; Volume: 9; Issue: 4 Linguagem: Espanhol

0718-8706

J. Hernández-Torres, Erick O. Santos Santiago, L. García-González, L. Zamora‐Peredo, Teresa Hernández Quiroz, Daniela Guzmán Castillo,

Transition Metal Oxide Nanomaterials

espanolSe fabricaron peliculas delgadas de oxido de vanadio por la tecnica de Sputtering RF, usando un blanco de dioxido de vanadio, sobre sustratos de vidrio Corning. Las peliculas fueron fabricadas con diferentes valores de potencia: 40, 60, 80 y 100 W. Posteriormente, las peliculas fueron sometidas a tres series de tratamientos termicos en una atmosfera de aire, usando una temperatura de 350 °C y variando el tiempo del tratamiento en una, dos y tres horas. La formacion de las diferentes fases de los oxidos de vanadio fue estudiada usando microscopia Raman en funcion de la potencia de fabricacion y de los tratamientos termicos pos-deposito. Los resultados obtenidos mostraron que espectroscopia Raman es una tecnica altamente sensible para determinar la presencia de las diferentes fases de dioxido de vanadio en peliculas amorfas. Se encontro que sin tratamiento termico se puede obtener peliculas de pentoxido de vanadio fabricadas a 100 W. EnglishThin films of vanadium oxide were fabricated by the Sputtering RF technique, using a vanadium dioxide target on Corning glass substrates. The films were fabricated with different power values: 40, 60, 80 and 100 W. Subsequently, the films were subjected to three series of heat treatments in air atmosphere, using a temperature of 350 °C and varying the time of treatment in one, two and three hours . The formation of the different phases of the vanadium oxides was studied using Raman microscopy according to the fabricated power and post-deposit heat treatments. The results obtained showed that Raman spectroscopy is a highly sensitive technique to determine the presence of the different phases of vanadium oxide in amorphous films. It was found that without heat treatment it is possible to obtain films of vanadium pentoxide manufactured at 100 W.