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Preparation and Formation Process of Vanadium Oxide Films by Thermal Decomposition of Vanadium Naphthenate

1977; Ceramic Society of Japan; Volume: 85; Issue: 986 Linguagem: Inglês

10.2109/jcersj1950.85.986_481

1884-2127

Tadashi SEKIYA, Toru Matsushita,

Catalytic Processes in Materials Science

ナフテン酸バナジウムのブタノール溶液を基板に塗布し, 乾燥後, 空気中あるいは窒素雰囲気中で焼成することによって酸化バナジウムの薄膜を生成させた.薄膜の生成過程をTGA, IRスペクトル, 電子線およびX線回折によって調べた.薄膜中にナフテン酸バナジウムの加水分解によって生成した非晶質酸化バナジウムは焼成温度の上昇とともに次第に結晶化し, 空気中または窒素雰囲気中で600℃, 20分間焼成することによって, それぞれほとんどV2O5またはVO2からなる薄膜が得られた.塗布-乾燥-焼成 (窒素雰囲気中600℃, 20分) の操作をくり返し, そのつど薄膜の電気抵抗を測定すると, くり返し回数が2回日から約60℃に転移が現われはじめ, くり返し回数の増加とともにその転移は顕著になった.基板に合成弗素金雲母のへき開面を用いると, 基板面の結晶性によって薄膜の結晶性が増し, 電気抵抗の転移はスライドガラスおよび透明石英ガラスを基板に用いた場合よりもさらにシャープになった.