Hematite‐Based Water Splitting with Low Turn‐On Voltages
2013; Wiley; Volume: 125; Issue: 48 Linguagem: Alemão
10.1002/ange.201306263
ISSN1521-3757
AutoresChun Du, Xiaogang Yang, Matthew T. Mayer, Henry Hoyt, Jin Xie, G. McMahon, Gregory Bischoping, Dunwei Wang,
Tópico(s)Mine drainage and remediation techniques
ResumoZusätzliche Lage: Die photoelektrochemische Aktivität von Hämatit in der Wasserspaltung wurde durch Modifikation der Oberfläche mit amorphem NiFeOx deutlich gesteigert (siehe Auftragung; FTO=fluordotiertes Zinnoxid; RHE=reversible Wasserstoffelektrode). Die gemessene Photospannung erhöht sich von 0.24 auf 0.61 V, woraus sich ein rekordverdächtig niedriges Einschaltpotential von 0.62 V ergibt.
Referência(s)