Artigo
Acesso aberto
Revisado por pares
Silicon dioxide atomic layer deposition at low temperature for PDMS microlenses coating
2024; Elsevier BV; Linguagem: Inglês
10.1016/j.optmat.2024.116167
ISSN1873-1252
AutoresFlorival M. Cunha, João R. Freitas, Sara Pimenta, M. F. Silva, J. H. Correia,
Tópico(s)TiO2 Photocatalysis and Solar Cells
Referência(s)