Artigo Acesso aberto Revisado por pares

Silicon dioxide atomic layer deposition at low temperature for PDMS microlenses coating

2024; Elsevier BV; Linguagem: Inglês

10.1016/j.optmat.2024.116167

ISSN

1873-1252

Autores

Florival M. Cunha, João R. Freitas, Sara Pimenta, M. F. Silva, J. H. Correia,

Tópico(s)

TiO2 Photocatalysis and Solar Cells

Referência(s)
Altmetric
PlumX